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核心定义与技术标准
参数 | XHV标准 | 与UHV对比 |
压力范围 | <10-12 Pa (10-14–10-15 Pa) | UHV:10-7–10-12 Pa |
气体密度 | <26 分子/cm3 | UHV:~104 分子/cm3 |
放气率 | <10-13 mbar·L·s-1·cm-2 | UHV:<10-11 mbar·L·s-1·cm-2 |
漏率 | <10-13 mbar·L·s-1 | UHV:<10-6 mbar·L·s-1 |
核心组件与技术抽气系统:
低温泵(Cryopump):液氦冷却表面至4K,捕集气体分子。
非蒸散型吸气剂(NEG):锆钒铁合金在400–600°C激活后化学吸附H2/CO/CO2。
离子溅射泵:通过钛升华移除惰性气体(He/Ne)。
腔体材料:
316L不锈钢:低碳电抛光(粗糙度Ra<0.1μm)。
无氧铜密封圈:用于ConFlat法兰。
预处理工艺:
烘烤(Baking):250–400°C持续48–168小时脱附水汽。
NEG激活:450°C真空环境下加热2小时。
核心应用领域
领域 | 应用案例 | 技术价值 |
量子计算 | 超导/硅基量子比特制备 | 延长退相干时间(T2>2 ms) |
粒子物理 | LHC束流管/暗物质探测器(如LUX-ZEPLIN) | 减少束流-气体干扰 |
引力波探测 | LIGO/Virgo干涉仪光学腔 | 降低残余气体散射相位噪声 |
二维材料 | 无缺陷石墨烯/MoS2生长 | 保障载流子迁移率>105 cm2/V·s |
核聚变 | ITER等离子体约束腔 | 防止燃料稀释 |
操作挑战与解决方案
挑战 | 解决方案 | 技术原理 |
氢渗透 | 液氮屏蔽双层腔体 | 阻隔不锈钢析出的氢分子 |
氦积累 | 钛升华泵(TSP) | 化学吸附惰性气体 |
微振动干扰 | 磁悬浮泵 | 消除机械振动传递 |
一氧化碳(CO) | NEG涂层覆腔体内壁 | 常温CO粘附概率>0.3 |
达成XHV的步骤
初步抽真空:涡轮分子泵抽至10-7 Pa。
高温烘烤:300±5°C烘烤72小时。
NEG激活:吸气剂面板加热至450°C(2小时)。
启动低温泵:冷头降温至4K,用贝亚德-阿尔伯特规管监控压力。
性能验证:残余气体分析仪(RGA)检测H2分压<10-13 Pa。
性能指标
指标 | XHV标准 | 尖端系统案例 |
本底压力 | <10-12 Pa | <5×10-13 Pa(CERN实验室) |
材料放气率 | <10-13 mbar·L·s-1·cm-2 | 2×10-14(烘烤后316L不锈钢) |
温控精度 | ±0.1°C | 多区域PID控制 |
典型应用案例
LIGO光学腔:XHV环境(10-14 Pa)降低气体噪声,实现13亿光年外引力波探测。
IBM Heron量子芯片:NEG涂层XHV腔室将量子比特相干时间提升10倍。
ITER真空室:双壁低温板设计维持<10-11 Pa(等离子体运行中)。
未来方向
室温XHV技术:
光子晶体表面通过范德华力捕获分子(实验阶段)。
AI优化烘烤:
机器学习预测放气曲线,缩短30% 工艺时间。
结论:XHV腔室是真空技术的巅峰——为量子计算、核聚变、基础物理研究提供原子级洁净环境,单分子污染即可导致系统失效。其实现依赖严格的材料工艺、多级抽气技术和智能控制策略。
核心:
低温泵XHV系统
离子泵
NEG涂层腔室
全金属XHV闸阀