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XHV极高真空舱
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XHV极高真空舱

XHV极高真空舱

以下是关于极高真空腔室(eXtreme High Vacuum Chamber, XHV)的详细技术说明,涵盖定义、核心参数、应用场景及操作要点

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产品描述

 核心定义与技术标准

参数XHV标准与UHV对比
压力范围<10-12 Pa (10-14–10-15 Pa)UHV:10-7–10-12 Pa
气体密度<26 分子/cm3UHV:~104 分子/cm3
放气率<10-13 mbar·L·s-1·cm-2UHV:<10-11 mbar·L·s-1·cm-2
漏率<10-13 mbar·L·s-1UHV:<10-6 mbar·L·s-1

核心组件与技术抽气系统:

低温泵(Cryopump):液氦冷却表面至4K,捕集气体分子。

非蒸散型吸气剂(NEG):锆钒铁合金在400–600°C激活后化学吸附H2/CO/CO2

离子溅射泵:通过钛升华移除惰性气体(He/Ne)。

腔体材料:

316L不锈钢:低碳电抛光(粗糙度Ra<0.1μm)。

无氧铜密封圈:用于ConFlat法兰。

预处理工艺:

烘烤(Baking):250–400°C持续48–168小时脱附水汽。

NEG激活:450°C真空环境下加热2小时。

核心应用领域

领域应用案例技术价值
量子计算超导/硅基量子比特制备延长退相干时间(T2>2 ms)
粒子物理LHC束流管/暗物质探测器(如LUX-ZEPLIN)减少束流-气体干扰
引力波探测LIGO/Virgo干涉仪光学腔降低残余气体散射相位噪声
二维材料无缺陷石墨烯/MoS2生长保障载流子迁移率>105 cm2/V·s
核聚变ITER等离子体约束腔防止燃料稀释

操作挑战与解决方案

挑战解决方案技术原理
氢渗透液氮屏蔽双层腔体阻隔不锈钢析出的氢分子
氦积累钛升华泵(TSP)化学吸附惰性气体
微振动干扰磁悬浮泵消除机械振动传递
一氧化碳(CO)NEG涂层覆腔体内壁常温CO粘附概率>0.3

达成XHV的步骤

初步抽真空:涡轮分子泵抽至10-7 Pa。

高温烘烤:300±5°C烘烤72小时。

NEG激活:吸气剂面板加热至450°C(2小时)。

启动低温泵:冷头降温至4K,用贝亚德-阿尔伯特规管监控压力。

性能验证:残余气体分析仪(RGA)检测H2分压<10-13 Pa。


性能指标

指标XHV标准尖端系统案例
本底压力<10-12 Pa<5×10-13 Pa(CERN实验室)
材料放气率<10-13 mbar·L·s-1·cm-22×10-14(烘烤后316L不锈钢)
温控精度±0.1°C多区域PID控制

典型应用案例

LIGO光学腔:XHV环境(10-14 Pa)降低气体噪声,实现13亿光年外引力波探测。

IBM Heron量子芯片:NEG涂层XHV腔室将量子比特相干时间提升10倍。

ITER真空室:双壁低温板设计维持<10-11 Pa(等离子体运行中)。 


未来方向

室温XHV技术:

光子晶体表面通过范德华力捕获分子(实验阶段)。

AI优化烘烤:

机器学习预测放气曲线,缩短30% 工艺时间。 


结论:XHV腔室是真空技术的巅峰——为量子计算、核聚变、基础物理研究提供原子级洁净环境,单分子污染即可导致系统失效。其实现依赖严格的材料工艺、多级抽气技术和智能控制策略。 

核心:

低温泵XHV系统

离子泵

NEG涂层腔室

全金属XHV闸阀