电话：159 8962 3158
电话：159 8962 3158
设备用途
原子层沉积（Atomic Layer Deposition）是⼀种可精确控制膜层厚度的薄膜制备方法，可在基底上实现金属、氧化物、碳（氮、硫、硅）化物、各类半导体材料和超导材料等的沉积。
设备主要针对氧化锌（ZnO）为代表的透明导电薄膜和三氧化二铝（Al2O3）等介电材料膜层的生长。设备操作简单可靠，各实验参数灵活可变，能够满足高校及研究所对薄膜材料和复杂表面均匀包覆的科研需要。
技术参数：
| 真空室 | 真空腔体 | 氩弧焊接不锈钢材料，上掀盖结构 |
| 底部排气口 | 连接真空干泵 | |
| 极限压力 | 5Pa | |
| 整体真空漏率 | ＜10-8Pa.l/s | |
| 基片加热器 | 外加热系统，室温～450℃连续可调 | |
| 衬底尺寸 | Ф50～100mm | |
| 膜厚均匀性 | 对Ф晶元的ZnO膜而言薄膜厚度均匀性小于±1% | |
| ALD工作气体输运控制气路 | 液态源气路 | 可按客户要求定制 |
| 气态源气路 | 可按客户要求定制 | |
| 真空排气系统 | 双侧无油干式真空泵 | 1台 |
| 真空管路 | 1套 | |
| 真空监测 | 皮拉尼电阻规 | 测量范围：1.0x105Pa～3.0x10-2Pa |
| 数据采集记录和人机交互界面 | 1套 | |
| 电器控制系统 | 样品加热电源 | 1套 |
| 电磁换向阀 | 1套 | |
| 总控制电源 | 1套 | |
| 安装机台 | 钢材焊接，蒙板快卸，脚轮可固定可移动 | |
| 设备占地面积 | 600x600x1200mm | |
